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电子化学材料

电子化学材料

2022年拜洛化涟化学公司在前沿尖端化学材料领域的业务得到进一步的发展,开始向半导体、显示面板制造、太阳能电池、新能源电池、OLED等生产制造工业供应其高端电子化学材料产品。生产和分销包括超净高纯电子化学品、电子封装材料、蚀刻液、铜蚀刻液、显影液、剥离液、覆铜板(CCL)原材料、光刻胶单体,半导体高纯化学材料、电池电解质原材料等。

2024年1月,拜洛化涟化学公司与博洋化学公司签署东南亚总代理协议-《海外代理框架合同》,拜洛化涟化学公司作为博洋化学公司在东南亚区域的销售业务总代理,负责其在区域内湿电子化学产品的销售业务,以及品牌和应用技术的市场推广。这使拜洛化涟化学公司可以进一步拓展其在电子化学工业的业务,为客户提供更多高质量的、高度可靠的电子化学产品。

 

    • 超净高纯电子级溶剂:异丙醇,丙酮,甲醇,乙醇、甲苯、N-甲基吡咯烷酮 (NMP);
    • 超净高纯电子级酸和碱:氢氟酸,硝酸,盐酸,硫酸,磷酸,醋酸、氢氧化钠,氢氧化钾,氢氧化铵;
    • 功能湿电子化学品:ITO蚀刻液、ITO/Ag/ITO蚀刻液、BOE蚀刻液、Mo/Al/Mo蚀刻液、铜蚀刻液、显影液、剥离液、稀释液、清洗液等;
    • 覆铜板(CCL)原材料:对二甲苯基双二苯基次膦氧化物;[(4-乙烯基苯基)甲基]二苯基氧化膦;乙烯基磷酸二乙酯;三(三甲基硅基)磷酸酯等;
    • 半导体高纯化学材料:2-羟基十六烷酸;2-羟基十八烷酸;1,2,4-三氮唑;1,2-二氮唑;2,4,5-三苯基咪唑;四氮唑紫;四甲基氢氧化铵,等;
    • 光刻胶单体:1-(2-溴乙氧基)-4-硝基苯;2,6-二羟基甲苯;对羟基苯乙烯;对乙酰氧基苯乙烯;对叔丁氧基苯乙烯等;
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产品名称 说明/CAS编号 等级

功能湿电子化学品

BOE蚀刻液 缓冲氧化物蚀刻剂(BOE)适用于蚀刻二氧化硅(SiO2)或氮化硅(Si3N4)的薄膜;提供5:1、6:1、7:1、20:1等不同比例的BOE蚀刻液;

EL, MOS

G5高纯异丙醇 适用于半导体、大规模集成电路的清洗和干燥;具体规格参数:纯度99.99%,水分≤50ppm; 阳离子≤10ppt;阴离子≤30ppb ;丙酮含量<10ppb;

EL, MOS

ITO/Ag/ITO蚀刻液 适用于新型显示AMOLED,ITO/Ag/ITO镀层的蚀刻,蚀刻后板面平整光滑。博洋化学目前可提供不含冰醋酸体系银蚀刻液;

EL

ITO蚀刻液 专门针对于氧化铟锡(ITO)玻璃导电薄膜镀层图线的脱膜蚀刻;分为王水系、草酸系、FeCl3系、硫酸系四个系列,可根据客户实际使用场景提供定制化的解决方案;

EL

Mo/Al/Mo蚀刻液 适用于集成电路、G8及以上的高世代显示面板和柔性面板;

EL, MOS

TMAH显影液 TMAH显影液,含独有金属保护剂,可有效地对底层金属进行保护,防止药液对基材造成破坏;

EL, MOS

剥离液 适用于水平喷淋、湿法槽式和单片喷淋等工艺,用于去除光刻胶及残留物质;独有的金属保护添加剂可有效保护底部金属层不被破坏;

EL, MOS

铜钼/铜钛蚀刻液 适用于集成电路、G8及以上的高世代显示面板和柔性面板;可根据要求提供定制化解决方案;

EL, MOS

超净高纯电子级酸和碱

氢氟酸

EL, MOS, UP

氢氧化钠

EL, MOS, UP

氢氧化钾

EL, MOS, UP

氢氧化铵

EL, MOS, UP

盐酸

EL, MOS, UP

硝酸

EL, MOS, UP

硫酸

EL, MOS, UP

磷酸

EL, MOS, UP

醋酸

EL, MOS, UP

超净高纯电子级溶剂

N-甲基吡咯烷酮 (NMP)

EL, MOS, UP

丙酮

EL, MOS, UP, UP-H

乙醇

EL, MOS, UP, UP-H

异丙醇

EL, MOS, UP, UP-H

甲苯

EL, MOS, UP

甲醇

EL, MOS, UP, UP-H

其他电子化学品

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